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Das Problem sind die Kohlenstoffionen. C++++ und C----. Zinn/Blei-ionen sind leichter bildbar, obwohl auch hier 4 Elektronen in der äußeren Schale sind. Vielleicht gelingt der Übergang über Ge/Si-Ionen

Hochheizen und Sauerstoff fallen auch aus, da es ja um die Oxidschicht (sofern sie da ist) geht, die wurde bei 10E-26 atm O2-Druck erzeugt, da kann ich jetzt nicht einfach ein Feuerchen machen;)

Was haltet ihr von Hexan?

Denke, das Ding kannst du auch nicht "einfach" hochheizen? - Wobei, "professionell" sollte das doch auch mit Aktivsauerstoff gehen (weiss gerade nicht mehr, wie die Methode heisst, da stellt man O Radikale her (oder gar ein kaltes Plasma, wenn ich mich richtig erinnere) was dann deine Oberfläche ziemlich schön oxidiert...)

Aber CS2 oder Toluol wären natürlich schon wesentlich einfacher (auch wenn CS2 recht hässlich stinkt).


Grüsse
alpha

also ich kann hier nur was zu "verwandten" Materialien, naemlich den Fullerenen, sagen.
Die loesen sich am besten in Toluol (oder auch Benzol), aber selbst da ist die Loelichkeit eher gering (irgendwo im g/l Bereich denke ich).

Generell wuerde ich hier eher apolare Loesungsmittel vorschlagen. Toluol ist einen Versuch wert.

Gruss cronos

Mhh.... Schwefelkohlenstoff (CS2) mal probert?

Hallo liebe Chemiker,

ich habe ein Problem! Um eine Probe per FIB Milling fuer das TEM herzustellen muss ich einen mehrere Mikrometer dicken Film aus sehr dichtem Graphit und amorphen Kohlenstoff von einer Metalloberflaeche entfernen. Ethanol und Aceton im Ultraschallbad bringen nicht wirklich befriedigende Ergebnisse und mechanisches entfernen faellt definitv aus da sich unter dem Kohlenstoff eine Aluminiumoxidschicht (wenige Nanometer dick) befinden koennte.

Welches Loesungsmittel faellt euch da spontan ein? Andere Ideen?


Danke!